欢迎来到中国科学院过程工程研究所无机功能材料课题组!

您是第 393508 位访客!

中文
|
EN
首页 新闻 研究方向 成果 成员 荣誉 产业化 招聘 链接资源
    成果
 
  封面论文
当前位置: 网站首页 > 成果 > 论文 > 封面论文 > Special Issue:Hollow Nanostructured Materials,Volume 31, Issue 38, September 20, 2019 (Cover Picture )

Special Issue:Hollow Nanostructured Materials,Volume 31, Issue 38, September 20, 2019 (Cover Picture )

来源:本站   发布时间: 2019-09-21 11:17:08   浏览:1966次  字号: [大] [中] [小] [收藏]

Sequential Templating Approach:A Groundbreaking Strategy to Create Hollow Multishelled Structures

Dan Mao, Jiawei Wan, Jiangyan Wang, and Dan Wang*, Advanced  Materials 2018, 1802874

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/full/10.1002/adma.201802874

<返回列表

相关链接

 
   
 
友情链接: Chem. Res. Chinese Universities CCS Chemistry Materials Chemistry Frontiers 中空多壳层纳微结构香山科学会议 第二届中空纳米材料国际研讨会

中国科学院过程工程研究所 http://www.ipe.cas.cn/

地址:北京市海淀区中关村北二街1号 电话:86-10-62533616 传真:86-10-62533616 邮编:100190